九谷焼用釉薬の物性に与える釉泥しょうの粒度分布変化の影響

■九谷焼技術センター 高橋宏
■福井大学 米沢晋 高島正之

研究の背景
 九谷焼は上絵装飾が特徴であるが、上絵の剥離は九谷焼が発祥して以来の最も深刻な問題である。同一調合の釉において上絵剥離が発生する場合と発生しない場合があり、釉の調合組成以外の要因が予想された。同一調合の釉物性の差を時系列的変化で考えた場合、釉泥しょうの粒度分布が変化してしまうと考えられた。そこで、釉泥しょうの粒度分布に注目し、釉の物性に与える影響を明らかにした。

 

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