SiNx膜の水蒸気バリア性に対する原子状水素の効果
■電子情報部 部家彰 高野昌宏 米澤保人 南川俊治
■(株)石川製作所 仁木敏一 室井進 南茂平
■北陸先端科学技術大学院大学 和泉亮 増田淳 梅本宏信 松村英樹
研究の背景
高分子材料(プラスチックフィルム)は,安価,軽量,壊れにくく,フレキシブルであるが,水蒸気バリア性が低いという問題があるため,薄膜でコートしてバリア性を付加する研究が行われている。本研究では、触媒CVD法を用いて,フレキシブル有機ELディスプレイ用バリア膜(窒化シリコン(SiNx))の形成を行った。
全文(PDFファイル:448KB、1ページ)