プラズマMOCVD法による窒化ホウ素(BN)膜の作製
■機械金属部 安井治之
■企画指導部 粟津薫
■金沢工業大学 池永訓昭 作道訓之
研究の背景
窒化ホウ素(BN)膜は，ダイヤモンドに次ぐ硬度と優れた摺動特性をもつことから，トライボロジー部材への適用が期待されている膜であるが，未だ実用化されていないのが現状である。本研究では，液体有機金属であるトリメチルボレートを原料として，プラズマMOCVD法により新たな構造のBN膜を作製を試みた。作製したBN膜の評価は，膜の構造評価として赤外分光法(FT-IR)，ラマン分光法，Ｘ線回折法，硬度評価をナノインデンテーション法により測定を行った。その結果，作製したBN膜は，hBN＋ホウ酸の複合構造のBN膜であることがわかった。
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