触媒CVD法によるフレキシブル有機ELディスプレイ用耐湿性SiNx膜の形成

■電子情報部 部家彰 米澤保人 南川俊治
■機械金属部 高野昌宏
■(株)石川製作所 仁木敏一 室井進 南茂平
■(株)クラレ 猪狩徳夫
■北陸先端科学技術大学院大学 和泉亮 増田淳 梅本宏信 松村英樹

研究の背景
 自発光素子である有機ELは、次世代ディスプレイの材料として期待され、屈曲可能な電子ペーパーとしても注目を集めている。しかし、有機ELは水蒸気や酸素、あるいは100℃以上では容易に劣化することから、100℃以下の低温で形成できるガスバリア性の良好な保護膜が求められている。


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