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フィルム上への非透湿性窒化膜の形成
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| ■機械電子部 ○部家彰 米澤保人 南川俊治 |
プラスチックフィルムは安価、軽量、壊れにくい、フレキシブルという利点があるため、ペットボトル等、多くの製品に利用されている。しかし、ガスまたは水蒸気の透過性が高く、バリア性がないため、その用途は制限される。そのため、薄膜でコートしてバリア性を付加する研究が行われている。また、プラスチックはシリコンのような無機材料と異なり、耐熱温度が100℃程度と低いため、保護膜材料を100℃以下の低温で形成する必要がある。
一方、窒化シリコン（SiNx）膜は耐薬品性、耐湿性が高く、透明であることから、保護膜として期待されている。SiNx膜の形成法として、触媒CVD（Cat-CVD）法がある。この方法は真空装置内に設置した加熱触媒体により原料ガスを接触分解し、400℃以下の低温で薄膜を形成する方法で、従来の方法に比べ、一度に大きな面積に形成でき、基板にダメージを与えることがない。
工業試験場では、このCat-CVD法を用いて、平成13年10月から研究成果活用プラザ・石川を中心に叶ﾎ川製作所と北陸先端科学技術大学院大学と共同で「低温触媒CVD装置の開発」をテーマとして、100℃以下の低温で非透湿性のSiNx膜を形成する装置の研究開発を行っている。
本稿では、これまでに得た成果について紹介する。
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