全文 （PDFファイル：63KB、1ページ）

	ハイブリッド型パルス・プラズマ・コーティング(ＨＰＰＣ)システムで創製した膜
	■ 粟津薫*　安井治之*　作道訓之**　佐治栄治**　岡崎健一**　長谷川祐史** 　池永訓昭**　佐藤貴之**　南保幸男**　斎藤和雄**

研究内容
　開発したHPPCシステムは，真空容器(1m３)，真空排気系，マイクロ波(2.45GHz)，高周波(13.56MHz)，高電圧パルス発生電源(40kV-20A)からなり，原料ガス(トルエン)供給を１Hzでon/offさせ，プラズマ点火，負の高電圧パルス印加を行うシステムを完成させた。パルスタイミングの一例を図1に示す。

　　　図1　パルスタイミング

　　図2　創製したDLC膜の硬さ
HPPCシステムによるDLC膜の成膜プロセスは，真空排気後，�@アルゴンガスによるイオンボンバード処理，�Aトルエンガスによるイオンミキシング処理，�BトルエンガスによるDLC膜の成膜処理からなる。図2にイオンミキシング時のパルス電圧を変えて成膜したDLC膜の硬さを測定した結果を示す。イオンミキシング電圧を大きくするとDLC膜の硬さが増加する。また，同様にミキシング電圧を変えて成膜したDLC膜のスクラッチ試験では，実用レベル以上の密着力が得られた。さらに，膜の均一性についても試験し，従来以上の着き回り性が得られた。

研究成果
　プラズマCVDとイオンビームミキシングを組み合わせたハイブリッド型パルス・プラズマ・コーティングシステムは，DLC膜の成膜プロセスの確立により，膜の硬さ，膜の密着性，さらにモデル金型を使った複雑形状部への均一な成膜により，有効性を実証した。
　本研究は，新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の地域コンソーシアム研究開発事業として実施したものである。

論文投稿
　2001 American Institute of Physics, 16th Int'l. Conf. Application of Accelerator in Research and Industry, p.955-958.
*機械電子部　**HPPCプロジェクト(地域コンソーシアム)