 |
|
低温触媒CVD装置の開発
−高分子材料へのコーティング−
|
■電子情報部 ○部家 彰 高野昌宏 米澤保人 南川俊治
■科学技術振興事業団 仁木敏一
■石川製作所 室井 進 小泉彰夫
■北陸先端科学技術大学院大学 増田 淳 梅本宏信 松村英樹 |
高分子材料(プラスチックフィルム)は安価、軽量、壊れにくい、フレキシブルという利点があり、ペットボトル等、多くの製品に利用されている。しかし、ガスまたは水蒸気の非透湿性（バリア性）が低く、その用途は制限されている。そのため、薄膜でコートしてバリア性を付加する研究が行われている。窒化シリコン(SiNx)膜は耐薬品性、バリア性が高く、透明なため、高分子材料の被膜として期待されているが、高分子材料の耐熱温度以下でバリア性の高い膜を形成する技術は確立されていない。
工業試験場では、平成13年10月から研究成果活用プラザ石川において(株)石川製作所と北陸先端科学技術大学院大学と共同で「低温触媒CVD装置の開発」をテーマとして、SiNx膜の形成法の1つである触媒CVD（Cat-CVD）法を用いて、80℃以下の低温でバリア性の高いSiNx膜を形成する装置の研究開発を行っている。
 |
|
PDFファイルをご覧になるためには、アクロバットリーダーが必要です。
ダウンロードはこちら |
|
