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| はじめに | ||
| 平成13年度科学技術振興事業団の重点地域研究開発促進事業に当場から２テーマが採択され， 研究開発をスタートさせました。 新しいコーティング技術開発を目指すハイブリッドナノダイヤモンド （HND） 膜の開発と低温で窒化シリコン （SiNx） 膜を形成する装置の開発です。 この事業は産学官の連携プロジェクトで， 当場が中心となって 「研究成果活用プラザ石川」 （辰口町） で研究開発を進めます。 | ||
| ハイブリッドナノダイヤモンド （HND） 膜の開発とその成膜プロセスの確立 | ||
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| 低温で窒化シリコン膜を成膜する装置の開発 | ||
SiNx 膜は非透水性に優れ， 保護膜として使われていますが， 低温で成膜できれば半導体デバイス， ディスプレイ製造工程の低コスト化が図られる他， 新たにプラスチックフィルム （右図参照） への適用なども期待されます。 |
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